《微細加工技術》創刊于1983年,是國家科委和國家新聞出版署批準,國內外公開發行的中央級重要科技期刊。主要反映半導體集成電路制造業的新工藝和新設備,是該領域科研工作者和工作報告的園地,為科研人員和我國信息產業化、現代化服務。是國家一級檢索刊物,已連續9年被美國工程信息公司Ei數據庫收錄,是《中國期刊網》、《中國學術期刊(光盤版)》、《中國學術期刊綜合評價數據庫》全文收錄用刊,是《中國科學引文數據庫》來源期刊。
主要欄目:綜述、電子束技術、離子束技術、光子束技術、薄膜技術、微機械加工技術、納米技術等。
本刊主要資助項目有:國家自然科學基金、國家高技術研究發展計劃、國家重點基礎研究發展計劃、國家教育部博士點基金、國家重點實驗室開放基金、山東省自然科學基金、中國科學院知識創新工程、中國博士后科學基金、上海市自然科學基金、中國科學院知識創新工程重要方向項目。
本刊主要資助課題有:國家自然科學基金(90307003)、山東省自然科學基金(Y2003G03)、國家重點基礎研究發展計劃(2003CB716204)、國家自然科學基金(59671051)、山東省科技攻關計劃(022090105)、國家高技術研究發展計劃(2004AA404260)、國家高技術研究發展計劃(2003AA404150)、國家自然科學基金(10572078)、國家自然科學基金(50275140)、國家高技術研究發展計劃(2003AA404140)。
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10.姓名在文題下按序排列,多作者稿署名時須征得其他作者同意,排序應在投稿時確定。接錄用通知后不再改動。獲得各項課題資助的來稿將優先發表(需要在稿件首頁注明)。
機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
中國科學院 | 192 | 光刻;電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;掩模 |
上海交通大學 | 129 | 微機電系統;電系統;機電系統;MEMS;刻蝕 |
清華大學 | 60 | 微細;光刻;微細加工;離子束;聚焦離子束 |
中國科學技術大學 | 47 | 刻蝕;離子束;離子束刻蝕;光刻;衍射 |
電子工業部 | 46 | 離子注入;注入機;離子注入機;半導體;電路 |
中國科學院微電子研究所 | 38 | 光刻;掩模;X射線光刻;電子束曝光;分辨率 |
中國科學院長春光學精密機械與... | 34 | 光柵;MEMS;刻蝕;光刻;傳感 |
山東大學 | 29 | 電子束;電子束曝光;曝光機;電子束光刻;電子束曝光機 |
山東工業大學 | 28 | 電子束曝光;曝光機;電子束曝光機;電子束;電路 |
華中理工大學 | 26 | 刻蝕;濺射;半導體;等離子體;離子束 |
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主編:伍三忠
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